KRKJPN笠原理化，铜浓度监测仪
CU-800是笠原理化针对铜制程开发的一体式铜浓度监测仪，凭借集成流通设计、宽量程测量、自动化适配的特点，为高浓度、自动化生产场景提供了稳定可靠的铜浓度在线监测方案，是提升电镀/蚀刻工艺一致性与生产效率的高效设备。

产品型号：CU-800 拓展版
厂商性质：代理商
更新时间：2026-05-15
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联系电话：021-63333365

品牌	Kasahara/KRK笠原	自动程度	自动波长
接收器类	CMOS	仪器结构	双波长
价格区间	面议	应用领域	化工,电子/电池,制药/生物制药

KRKJPN笠原理化，铜浓度监测仪

一、产品简介

笠原理化（KASAHARA）CU-800 是一款专为工业生产场景设计的一体式流通型铜浓度监测仪，核心聚焦硫酸铜电镀、蚀刻等制程的铜离子浓度管控，依托优良的光学检测技术，实现对药液中铜离子浓度的在线连续监测。该设备量程覆盖 0~80g Cu/L，适配高浓度硫酸铜电镀液、蚀刻液的监测需求，机身集成度高、操作便捷，专门针对 PCB、电子零部件等行业的自动化生产场景打造，能够实时捕捉铜离子浓度变化，为生产工艺优化、质量管控提供精准数据支撑，是电镀、蚀刻行业的核心监测设备。

二、核心特点

一体式集成设计：将检测单元与指示转换器高度集成，采用流通式安装结构，解决传统分体式探头易结垢、维护繁琐的痛点，无需复杂组装，安装便捷，日常维护简单，大幅降低运维成本，适配连续生产的严苛要求。
宽量程精准监测：支持 0~80g Cu/L 宽量程测量，既能满足常规电镀液的浓度监测，也能适配高浓度硫酸铜蚀刻液的检测需求，测量精度高、误差小，能精准反映药液中铜离子的真实浓度，为工艺调整提供可靠依据。
自动化闭环管控：可稳定输出铜离子浓度信号，轻松对接记录器、调节器等外部设备，构建完整的浓度闭环控制回路，实现铜浓度的自动化监测、数据记录与工艺调控，减少人工干预，提升生产效率。
强耐腐稳运行：设备接液部件采用高耐腐材质，能够抵御电镀、蚀刻行业高腐蚀性药液的侵蚀，适配复杂恶劣的生产环境，可长期连续稳定运行，保障监测数据的连续性和准确性，满足工业生产 24 小时不间断运行的需求。

三、典型用途

该设备广泛应用于 PCB、电子零部件等行业，核心用于硫酸铜电镀制程中铜离子浓度的实时在线监测，精准把控镀液浓度，确保电镀产品质量稳定。同时可用于高浓度硫酸铜蚀刻液的浓度管控，优化蚀刻工艺参数，减少产品瑕疵。在自动化生产线中，可实现铜浓度的闭环控制，自动记录浓度数据，便于质量追溯和工艺优化；此外，还可用于工业废水、回用水中铜离子浓度的监测，助力企业实现环保合规、节能降耗，满足电镀、蚀刻行业的监测需求，为生产高质量、高稳定性提供有力保障。