一、产品简介
笠原理化（KASAHARA）CU-502是一款依托吸光度法核心技术打造的在线式铜浓度监测仪，专为电镀、蚀刻行业的硫酸铜制程量身定制，是铜离子浓度精准管控的专用设备。该设备聚焦硫酸铜电镀液、蚀刻液的浓度监测需求，可实现连续、实时、精准的铜离子浓度检测，无需人工取样化验，解决传统检测方式效率低、误差大、滞后性强的痛点，为电镀、蚀刻工艺的稳定运行提供可靠的数据支撑。整机采用工业级耐腐结构设计，适配电镀车间高湿度、高腐蚀的复杂工况，运行安稳可靠，广泛应用于PCB制造、半导体加工、五金电镀等领域，助力企业实现铜制程工艺的标准化、精细化管控，保障产品品质一致性。
二、核心特点
专业铜浓度检测：采用高精度吸光度法原理，针对性适配硫酸铜电镀液、蚀刻液的检测场景，可直接捕捉药液中铜离子浓度变化，测量精准度高、响应速度快。检测数据可实时记录留存，同时支持标准信号输出，能够直接接入生产线控制系统，实现铜浓度的自动反馈与闭环工艺管控，减少人工干预，提升工艺管控效率。
自动光源校正：设备内置参考光功能，可智能监测LED光源的光量变化，当光源出现衰减时自动完成校正，有效消除光源老化带来的测量误差，保障长期连续运行过程中的数据稳定性，无需工作人员频繁手动校准，降低运维成本。
在线连续监测：支持24小时不间断在线检测，实时采集铜离子浓度数据并直观显示，可快速反馈药液浓度波动，便于工作人员及时调整工艺参数，维持电镀液、蚀刻液浓度稳定，避免因浓度偏差导致的产品瑕疵，提升生产合格率。
便捷操作与信号输出：机身配备清晰的功能按键，涵盖测量、校准、报警等核心操作，界面简洁易懂，工作人员无需专业培训即可上手操作。同时标配上下限报警功能，当铜浓度超出设定范围时自动报警，提醒工作人员及时处理；支持标准信号输出，可便捷接入工控系统，实现多设备集中管控，适配规模化生产场景。
三、典型用途
广泛应用于各类电解硫酸铜电镀场景，可实现电镀液中铜离子浓度的在线监测与自动控制，保障电镀层厚度均匀、品质稳定；适配硫酸铜蚀刻液制程，实时监测蚀刻液中铜浓度变化，精准把控蚀刻速度，避免蚀刻过度的问题；在PCB、半导体制造过程中，用于铜制程药液的浓度闭环控制，助力提升电路精度与产品可靠性；同时可应用于各类电镀、蚀刻生产线，实现工艺参数的稳定化管理，留存浓度监测数据，为工艺优化、质量追溯提供有力依据，推动生产效率与产品品质双重提升。
<span data-lark-record-data=","children":[],"text":,"attribs":},"apool":"],"1":["author","7578214614010186714"]},"nextNum":2}},"align":"left","comments":[],"revisions":[],"locked":false,"author":"7578214614010186714","type":"heading1","parent_id":"QroJd4J3roAw45xhjVGcgka5nFh","hidden":false}},"MK3IfP6KNd6XhxcsN6HcIsRvnXc":,"children":[],"text":"],"1":["author","7578214614010186714"]},"nextNum":2,"attribToNum":":0,"author,7578214614010186714":1}},"initialAttributedTexts":{"text":{"0":"笠原理化（KASAHARA）CU-502是一款依托吸光度法核心技术打造的在线式铜浓度监测仪，专为电镀、蚀刻行业的硫酸铜制程量身定制，是铜离子浓度精准管控的专用设备。该设备聚焦硫酸铜电镀液、蚀刻液的浓度监测需求，可实现连续、实时、精准的铜离子浓度检测，无需人工取样化验，<a class=" style="color:red" a="" class="lark-record-clipboard" cu-502="" data-lark-record-format="docx/record">
产品分类
产品型号：CU-502 拓展款
立即咨询
联系电话：021-63333365
相关文章
您的位置：
